# 日本曹達（4041） 日本曹達と関西大学、EUVレジストの高感度化に貢献する下層膜材料を共同開発

Source: Komori (komori.app) — https://komori.app/company/4041/disclosure/20261112577037
種別: その他開示
開示日: 2026-11-13
Komoriの読み（0-100）: 59
企業ページ: https://komori.app/company/4041

## 何が変わったか

日本曹達と関西大学が、EUVレジストの反応を促進する新しい下層膜材料を共同開発しました。初期評価では、同程度のレジスト反応に必要なEUV露光量を20％以上減らせる効果を確認しています。

## 会社が挙げた理由

EUVを吸収して発生した二次電子がレジスト中の光酸発生剤などに作用し、化学反応を促進するため。今後は材料の組成・構造の最適化や、半導体製造プロセスへの適用可能性、量産性・品質安定性・供給体制を検討するとしている。

## 開示の要点

- 対象製品・サービス名: EUV増感機能を持つポリマーの下層膜材料（EUVレジスト用下層膜）
- 相手先: 学校法人関西大学
- 相手先の概要: 所在地：大阪府吹田市、学長：高橋智幸。化学生命工学部教授の工藤宏人が研究に参加。
- 当社との関係: 日本曹達と関西大学が共同開発。資本関係・人的関係についての記載はない。
- 契約金額: not_disclosed
- 提供価格: not_disclosed
- 契約締結日: not_disclosed
- 提供開始日: not_disclosed
- 適用分野: 先端半導体製造、EUVリソグラフィー、EUVレジスト、微細パターン形成
- 受賞名・認証名: not_disclosed
- 授与・認証機関: not_disclosed
- 登録番号・有効期限: not_disclosed
- 拠点所在地: not_disclosed
- 拠点の規模: not_disclosed
- 定量的な効果: 同程度の膜厚減少を得るために必要なEUV露光量を20％以上低減（初期評価）
- 利用実績: not_disclosed
- 業績への影響: not_disclosed
- 出典: ASML社『2025 Annual Report on IFRS』

## 評価の根拠

- この発表が扱う事柄は、どの段階にあるか。: 実施済み（原文: 「「新たな下層膜材料を共同で開発しました」「20％以上の増感効果が見られました」」）
- 契約の締結や機関決定について、どこまで書かれているか。: 合意の記載なし（原文: 「「日本曹達株式会社…と、学校法人関西大学…は…新たな下層膜材料を共同で開発しました」」）
- 開始日・発売日・稼働日など、この事柄が効力を持つ時期はどこまで具体的に示されているか。: 時期なし（原文: 「「今後、材料の組成や構造の最適化を進め、次世代半導体製造プロセスへの採用を目指してまいります」」）
- この発表は初出か、既に発表済みの取り組みの続報か、繰り返される事柄の今回分か。: 初出（原文: 「「新たな下層膜材料を共同で開発しました」」）
- 発表は、対象の事柄が起きる前か、同日か、起きた後か。: 事後の報告（原文: 「「初期評価では…20％以上低減しました」「増感効果が示されたといえます」」）
- 会社はこの内容をどれだけ断定的に書いているか。: 条件付き（原文: 「「有効な材料となる可能性が示されました」「本結果は初期評価に基づくもの」「採用を目指してまいります」」）
- 相手先はどのような主体として示されているか。: 官公庁・公的機関（原文: 「「学校法人関西大学」」）
- 相手先は、この発表においてどの役割か。: 共同で行う相手（原文: 「「日本曹達と関西大学…下層膜材料を共同開発」」）
- 相手先の所在地・資本金・事業内容など、会社概要が記載されているか。: あり（原文: 「「所在地：大阪府吹田市／学長：高橋智幸」「関西大学 化学生命工学部 教授 工藤宏人」」）
- 相手先が当社の子会社・グループ会社・役員・大株主など、既存の関係先だと書かれているか。: なし（原文: 「「日本曹達株式会社…と、学校法人関西大学…」」）
- 提供先・導入先・受注先の実名が示されているか。: なし（原文: 「「次世代半導体製造プロセスへの採用を目指してまいります」」）
- この発表に付いている数値のうち、最も具体的なものはどれか。: 効果の実測値（原文: 「「必要なEUV露光量が20％以上低減しました」」）
- 示された数値は、どういう性質の数か。: 期間の実績（原文: 「「初期評価では…必要なEUV露光量が20％以上低減しました」」）
- 書かれている主要な事実を、社外の資料で確かめる手段があるか。: 第三者の名称あり（原文: 「「出典：ASML社 2025 Annual Report on IFRS」」）
- 主要な主張に、検証できる数値と時期がついているか。: 数値と時期あり（原文: 「「2026年11月13日」「初期評価では…20％以上低減しました」」）
- 会社はこの件を、将来の収益にどう結びつけているか。: 戦略との関係のみ（原文: 「「次世代半導体製造プロセスへの採用を目指してまいります」「実用化に向けた…検討」」）
- 業績への影響について、どう書かれているか。: 業績に触れず（原文: 「業績への影響に関する記載なし」）
- この発表が扱っている事柄の種類はどれか。: 収益に直結（原文: 「「EUVレジストの下層膜として使用することを想定」「採用を目指してまいります」」）
- この事柄はどこまでの広がりを持つと書かれているか。: 一拠点・一製品（原文: 「「今回開発した材料は、EUV増感機能を持つポリマー」」）
- 会社の製品・サービスにとって、これはどういう新しさか。: 既存領域の新製品（原文: 「「新たな下層膜材料を共同で開発しました」」）
- 発表の中心にある製品・サービス・成果は、誰のものか。: 他社との共同（原文: 「「日本曹達と関西大学…下層膜材料を共同開発」」）
- 発表の対象が当社本体ではなく、子会社・グループ会社の事柄か。: なし（原文: 「「日本曹達株式会社」「学校法人関西大学」」）
- 「初」「唯一」「No.1」などの優位性の主張があるか、あるとすれば根拠は示されているか。: 優位性の主張なし（原文: 「「20％以上の増感効果を確認」」）
- この事柄の地理的な範囲はどこか。: 記載なし（原文: 「「本社：東京都千代田区」「所在地：大阪府吹田市」」）
- 実際に使われている・売れていることを示す記載はどの程度あるか。: 利用実績の記載なし（原文: 「「採用を目指してまいります」」）
- 競合製品や従来手法との違いが、具体的に述べられているか。: あり（原文: 「「下層膜を使用しない場合と比較して…EUV露光量が20％以上低減」」）
- 製品名・型番・規格名・特許や認証の番号など、後から特定できる固有の識別子が示されているか。: あり（原文: 「「ポジ型CAR」「ネガ型CAR」「光酸発生剤（PAG）」」）
- この書類はどの様式で書かれているか。: プレスリリース様式（原文: 「「報道関係各位」」）
- 評価を表す表現がどれだけ使われているか。: 一部に強調（原文: 「「劇的に半導体露光システムに変革をもたらす可能性」」）
- 前提条件・不確実性・将来見通しに関する注意書きが付されているか。: あり（原文: 「「本結果は初期評価に基づくもの」「今後…有効性のさらなる確認を進めます」」）